-
Al2O3 Seramik Yonga Tutucunun Özelleştirilmiş İşlenmesi
Soğuk izostatik presleme ile şekillendirilen ve yüksek sıcaklıkta sinterlenen, ardından hassas bir şekilde işlenip parlatılan seramik yedek parçalar, aşınma direnci, korozyon direnci, düşük termal genleşme ve yalıtım özellikleriyle yarı iletken ekipmanlarının her türlü katı gereksinimini karşılayabilir. Seramikler, yüksek sıcaklık, vakum veya aşındırıcı gaz koşullarında uzun süre çalışabilen birçok yarı iletken üretim ekipmanında kullanılabilir.
Yüksek saflıkta alümina tozundan üretilen, soğuk izostatik presleme, yüksek sıcaklıkta sinterleme ve hassas son işlemden geçirilen bu ürün, ±0,001 mm boyut toleransına, Ra 0,1 yüzey kalitesine ve 1600℃ sıcaklık dayanımına ulaşabilir.
-
ST.CERA Özel Tasarım Yarı İletken Ekipman Seramik Plakası
Soğuk izostatik presleme ile şekillendirilen ve yüksek sıcaklıkta sinterlenen, ardından hassas bir şekilde işlenip parlatılan seramik yedek parçalar, aşınma direnci, korozyon direnci, düşük termal genleşme ve yalıtım özellikleriyle yarı iletken ekipmanlarının her türlü katı gereksinimini karşılayabilir. Seramikler, yüksek sıcaklık, vakum veya aşındırıcı gaz koşullarında uzun süre çalışabilen birçok yarı iletken üretim ekipmanında kullanılabilir.
Yüksek saflıkta alümina tozundan üretilen, soğuk izostatik presleme, yüksek sıcaklıkta sinterleme ve hassas son işlemden geçirilen bu ürün, ±0,001 mm boyut toleransına, Ra 0,1 yüzey kalitesine ve 1600℃ sıcaklık dayanımına ulaşabilir.
-
300 mm'lik wafer işleme için 12 inçlik Alümina Vakumlu Tutucu
St.Cera'nın 12 inçlik vakum tutucusu, 300 mm'lik wafer'ların işlenmesi için %99,8 yüksek saflıkta alüminadan (Al₂O₃) hassas bir şekilde üretilmiştir. Tutucu, tüm 300 mm çap boyunca düzgün vakum dağılımı sağlamak için ince oluklu bir yüzeye (oluk genişliği 0,5–1,0 mm, aralık 2–3 mm) sahiptir. Düzlük 5 μm içinde korunarak, kesme, arka yüzey taşlama ve inceleme sırasında wafer'ların bükülmeden sabitlenmesini sağlar. Malzemenin yüksek eğilme dayanımı (361 MPa) ve sertliği (16 GPa), tekrarlanan vakum döngülerinde bile uzun vadeli boyutsal kararlılığı garanti eder.
-
Yarı İletken Prob Ekipmanları için Seramik Yedek Parçalar
Soğuk izostatik presleme ile şekillendirilen ve yüksek sıcaklıkta sinterlenen, ardından hassas bir şekilde işlenip parlatılan seramik yedek parçalar, aşınma direnci, korozyon direnci, düşük termal genleşme ve yalıtım özellikleriyle yarı iletken ekipmanlarının her türlü katı gereksinimini karşılayabilir. Seramikler, yüksek sıcaklık, vakum veya aşındırıcı gaz koşullarında uzun süre çalışabilen birçok yarı iletken üretim ekipmanında kullanılabilir.
Yüksek saflıkta alümina tozundan üretilen, soğuk izostatik presleme, yüksek sıcaklıkta sinterleme ve hassas son işlemden geçirilen bu ürün, ±0,001 mm boyut toleransına, Ra 0,1 yüzey kalitesine ve 1600℃ sıcaklık dayanımına ulaşabilir.
-
Seramik Plaka Yarı İletken Ekipman Taşıyıcı
Soğuk izostatik presleme ile şekillendirilen ve yüksek sıcaklıkta sinterlenen, ardından hassas bir şekilde işlenip parlatılan seramik yedek parçalar, aşınma direnci, korozyon direnci, düşük termal genleşme ve yalıtım özellikleriyle yarı iletken ekipmanlarının her türlü katı gereksinimini karşılayabilir. Seramikler, yüksek sıcaklık, vakum veya aşındırıcı gaz koşullarında uzun süre çalışabilen birçok yarı iletken üretim ekipmanında kullanılabilir.
Yüksek saflıkta alümina tozundan üretilen, soğuk izostatik presleme, yüksek sıcaklıkta sinterleme ve hassas son işlemden geçirilen bu ürün, ±0,001 mm boyut toleransına, Ra 0,1 yüzey kalitesine ve 1600℃ sıcaklık dayanımına ulaşabilir.
-
Yarı İletken Ekipman Seramik Yedek Parçaları
Soğuk izostatik presleme ile şekillendirilen ve yüksek sıcaklıkta sinterlenen, ardından hassas bir şekilde işlenip parlatılan seramik yedek parçalar, aşınma direnci, korozyon direnci, düşük termal genleşme ve yalıtım özellikleriyle yarı iletken ekipmanlarının her türlü katı gereksinimini karşılayabilir. Seramikler, yüksek sıcaklık, vakum veya aşındırıcı gaz koşullarında uzun süre çalışabilen birçok yarı iletken üretim ekipmanında kullanılabilir.
Yüksek saflıkta alümina tozundan üretilen, soğuk izostatik presleme, yüksek sıcaklıkta sinterleme ve hassas son işlemden geçirilen bu ürün, ±0,001 mm boyut toleransına, Ra 0,1 yüzey kalitesine ve 1600℃ sıcaklık dayanımına ulaşabilir.
-
Yüksek Sıcaklık Odalarının Sızdırmazlığı için Yüksek Saflıkta Alümina Seramik Sızdırmazlık Halkası
St.Cera'nın seramik sızdırmazlık halkası, elastomerlerin bozulduğu aşırı ortamlarda polimer O-ringlere alternatif olarak tasarlanmıştır. %99,8 yüksek saflıkta alüminadan (Al₂O₃) üretilen bu sert sızdırmazlık halkası, statik sızdırmazlık uygulamalarında - genellikle yumuşak metal veya grafit conta ile birlikte - 800°C'ye kadar sıcaklıklarda ve agresif plazma veya kimyasal ortamlarda güvenilir vakum veya gaz muhafazası sağlamak için kullanılır. Malzeme sıfır gaz salınımı, yüksek basınç dayanımı (temel eğilme dayanımı 361 MPa) ve kimyasal inertlik (HF hariç halojenlere, asitlere ve alkalilere karşı dirençli) sunar. Hassas taşlanmış sızdırmazlık yüzeyleri (düzlük ≤5 μm, yüzey pürüzlülüğü Ra ≤0,2 μm), eşleşen metal veya seramik bileşenlerle sızdırmaz temas sağlar.
-
Plazma Aşındırma ve CVD Sistemleri için Yüksek Saflıkta Alümina Odak Halkası
St.Cera'nın oda odaklama halkası, plazma aşındırma, CVD ve PVD yarı iletken ekipmanlarında kullanılan kritik bir proses kiti bileşenidir. %99,8 yüksek saflıkta alüminadan (Al₂O₃) üretilen halka, plazmayı sınırlamak ve iyon açısal dağılımını optimize etmek için gofret kenarını çevreler ve böylece gofret yüzeyinde aşındırma homojenliğini iyileştirir. Malzeme, olağanüstü plazma direnci, yüksek dielektrik dayanımı (15×10⁶ V/m) ve 1600°C'ye kadar termal kararlılık sunarak, agresif flor veya klor bazlı plazma ortamlarında uzun vadeli güvenilirlik sağlar. Hassas taşlanmış iç/dış çap ve düzlük (≤10 μm), gofret kenarının doğru konumlandırılmasını sağlayarak kenar kusurlarını ve parçacık oluşumunu azaltır.
-
CVD / PVD Proses Odaları için Yüksek Saflıkta Alümina Seramik Halka
St.Cera'nın seramik halkası, CVD (Kimyasal Buhar Biriktirme) ve PVD (Fiziksel Buhar Biriktirme) işlem odalarında kullanılmak üzere özel olarak tasarlanmıştır. %99,8 yüksek saflıkta alüminadan (Al₂O₃) üretilen bu halka, plazmayı sınırlamak ve oda duvarlarını aşınmaya karşı korumak için oda astarı, odak halkası veya işlem kiti bileşeni olarak görev yapar. Malzeme, mükemmel plazma direnci, yüksek dielektrik dayanımı (15×10⁶ V/m) ve 1600°C'ye kadar termal kararlılık sunarak, agresif flor bazlı plazma ortamlarında uzun hizmet ömrü sağlar. Hassas boyut toleransları (İç/Dış çapta ±0,05 mm) ve düzlük (≤10 μm), tutarlı gofret kenarı konumlandırmasına olanak tanıyarak, biriktirme homojenliğini artırır ve parçacık oluşumunu azaltır.
-
Eğrilmiş Yarı İletken Levhaların İşlenmesi için Gözenekli Seramik Vakumlu Tutucu
St.Cera'nın gözenekli seramik tutucusu, %30-45 oranında homojen açık gözenekliliğe ve 10 ila 100 μm arasında değişen gözenek boyutlarına sahip yüksek saflıkta alüminadan üretilmiştir. Geleneksel oluklu tutucuların aksine, gözenekli yüzey, tüm wafer arka yüzünde dağıtılmış vakum sağlayarak, bükülmüş, ince veya tek tek ayrılmış wafer'ları kenar kalkması veya kırılması olmadan etkili bir şekilde tutar. Hafif vakum (kısıtlayıcı aracılığıyla ayarlanabilir) ayrıca arka yüzeyde iz oluşmasını da önler.
-
İnce gofretlerin taşınması için alümina bazlı gözenekli seramik vakumlu tutucu.
St.Cera'nın alümina bazlı gözenekli tutucusu, %99,6 saflıkta Al₂O₃'ten üretilmiştir ve %30-45 arasında kontrollü açık gözenekliliğe ve 10 ila 50 μm arasında değişen homojen gözenek boyutuna sahiptir. Oluklu tutucuların aksine, gözenekli yüzey, tüm wafer arka yüzünde dağıtılmış vakum sağlayarak kenar izlerini ortadan kaldırır ve ultra ince (≤100 μm) veya bükülmüş wafer'ların nazikçe tutulmasını sağlar. Malzeme, ≥250 MPa eğilme dayanımı ve havada 400°C'ye kadar termal kararlılık sunar.
-
CVD/PVD Duş Başlığı için Alümina Gaz Dağıtım Plakası
St.Cera'nın gaz dağıtım plakası (duş başlığı), %99,8 saflıkta yüksek kaliteli alümina seramikten hassas bir şekilde işlenmiştir. CVD, PVD veya ALD işlemleri sırasında gofret yüzeyinde düzgün gaz akışı sağlamak için mikro deliklerden (çapları 0,3–1,5 mm) oluşan bir diziye sahiptir. Plakanın yüksek dielektrik dayanımı (>15×10⁶ V/m) ve plazma direnci, onu yarı iletken ince film kaplaması için vazgeçilmez kılmaktadır.
